Центр сопряженного мониторинга окружающей среды и природных ресурсов
«Мониторинг. Наука и технологии» Рецензируемый и реферируемый научно-технический журнал
Меню раздела «МНТ»
ГЛАВНАЯ
цели и задачи
Перечень ВАК
ВЫПУСКИ
2019
2018
2017
2016
2015
2014
2013
выпуск №1
статья #01
статья #02
статья #03
статья #04
статья #05
статья #06
статья #07
статья #08
статья #09
статья #10
статья #11
статья #12
статья #13
статья #14
статья #15
выпуск №2
выпуск №3
выпуск №4
2012
2011
2010
2009
все выпуски
АВТОРАМ
этика
порядок рецензирования
правила для авторов
ПОДПИСКА
О ЖУРНАЛЕ
главный редактор
редакционный совет
редакционная коллегия
документы
свидетельство
issn
ENG
Меню разделов
ГЛАВНАЯ
Раздел: «ЦЕНТР»
Раздел: «МНТ»
Раздел: «ЭЦП»
Раздел: «MST»

Багамадова А.М., Омаев А.К., Шахшаев Ш.О., Махмудов С.Ш.
Влияние подслоя и параметров осаждения на структурные свойства эпитаксиальных слоев ZnO, полученных на неориентированных подложках
Effect of sublayer and deposition parameters on the structural properties of epitaxial ZnO layers obtained on nonoriented substrates
УДК:
538.975.911
Аннотация:
Исследуется влияние тонкого промежуточного подслоя оксида цинка, осажденного методом магнетронного распыления (ММР-подслой) на ориентацию CVD пленок оксида цинка. Определены оптимальные ростовые параметры CVD процесса: влияние давления водорода и температуры подложки на ориентацию и физические свойства ориентированных CVD пленок оксида цинка. Показано, что введением тонкого ММР-подслоя можно получать совершенные эпитаксиальные слои ZnO на подложках любой природы (неориентированные, аморфные) с низкой себестоимостью, что привлекательно для промышленного производства.
Ключевые
слова:
эпитаксиальные слои, метод магнетронного распыления, оптимальные параметры, CVD процесс, подложка
Abstracts:
The influence of a zinc oxide thin intermediate sublayer is investigated deposited by magnetron sputtering (MMP-sublayer) on orientation of CVD ZnO films. The optimal growth parameters of CVD process are determined: the effect of hydrogen pressure and substrate temperature on the orientation and physical properties of oriented CVD ZnO films. It is shown that the introduction of MMP-thin sublayer allows getting perfect ZnO epitaxial layers on substrates of any nature (non-oriented, amorphous) at low cost, which is attractive for industrial production.
Keywords:
epitaxial layers, magnetron sputtering, optimal parameters, CVD process, substrate

Текст статьи Текст статьи
2,6 МБ
Скачать

вернуться к списку статей

Авторы статьи:
БАГАМАДОВА
Асият Муртузалиевна
m_asyabag@mail.ru
кандидат физико-математических наук, старший научный сотрудник Института Физики ДНЦ РАН
ОМАЕВ
Ашуралав Кирамуттинович
научный сотрудник Института Физики ДНЦ РАН
ШАХШАЕВ
Шейхмагомед Омарович
научный сотрудник Института Физики ДНЦ РАН
МАХМУДОВ
Сослан Шамурадович
научный сотрудник Института Физики ДНЦ РАН
Список литературы:
1.
Н.Н.Шефталь Рост кристаллов. Т.10,М.: «Наука», 1974.
2.
В.И.Клыков, Н.М.Гладков. Изв. АН Латв. ССР. Сер. физ. и техн. Наука.1985.№1,с.92.
3.
Shiosaki T.,S. Ohnishi, A. Kawabata J,Appl,Phys. 1979, vol.50, № 5, p. 3113.
4.
C.R.Aita, A.J.Purdes, R.J.Lad, P.D. Funkenbush. J. Appl. Phys. V.51, №10, 1980.
5.
I.M. Grankin, G.I Kalnaya., V.P. Pogrebnyak, V.K.Lopushenko. Ukrainski Physicheski Journal. V. 26(6) 1040
6.
N.Fuimura, T.Nishihara, S.Goto, J.Xu, T.Ito. J. of Cryst. Growth 130,269.
7.
Б.М.Атаев., И.К.Камилов, А.М.Багамадова, В.В.Мамедов, С.Ш.Махмудов. ЖТФ, 1999, т.69, вып.11, с.138 - 140.
8.
Б.М.Атаев, И.К.Камилов, А.М.Багамадова, В.В.Мамедов, А.К.Омаев. Патент на изобретение № 2139596.
9.
Б.М.Атаев, А.М. Багамадова, В.В. Мамедов, С.Ш. Махмудов, А.К. Омаев. Кристаллография, 2002, 47, №6, с. 119-121.
10.
F.Kh.Abduev, A.K.Akhmedov, A.Sh.Asvarov, I.K.Kamilov, S.N.Siluanov NATO Science Series11: Mathematics, Physics and Chemistry 194, 15.
 
МНТ Выпуски 2013 Выпуск №1 Статья #12
© ООО «ЦСМОСиПР», 2020
Все права защищены
Яндекс.Метрика
  +7(926) 067-59-67
  +7(963) 406-99-55